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FCVA 过滤阴极真空电弧平台镀膜

采用纳峰国际专利的FCVA过滤阴极真空电弧技术,镀膜粒子为100%离化的等离子。在无需加热被镀工件的条件下,经过电磁场交互作用后,FCVA镀膜离子与普通镀膜PVD、CVD镀膜技术相比具有更高,更均匀的能量,从而在低温条件下可在工件表面形成致密、超高硬度、超强附着力的膜层,解决了其他传统镀膜 技术不可避免的由于高温沉积而引发的众多问题。

FCVA过滤阴极真空电弧技术的优点

100% 等离子体镀膜粒子,能量及方向可调

膜层致密、高硬度、高均匀性

超强附着力

室温沉积

FCVA过滤阴极真空弧设备原理图

FCVA 镀膜源特点

纯等离子体沉积技术

镀膜粒子能量及方向可调

特殊阴极/ 阳极设计,确保电弧稳定性

自动割靶设计(石墨靶材)

室温沉积

全自动控制,友好的用户界面

实时工艺监控

用户自定义镀膜工艺参数

支持参数、操作数据输出

动态实时补偿模式



PVD (磁控溅射)CVD(PECVD)FCVA
镀膜粒子原子原子反应基团离子
镀膜能量~0.1eV~1eV20to5000eV
工作气压7E-1Pa1Pa1E-3Pa
附着力普通普通很好
膜层密度~2.2g/cm3~2.0g/cm3~3.4g/cm3
镀膜均匀性不可调不可调可调
镀膜原材料固体气体固体
镀膜温度高温高温室温